ຂະບວນການຮັກສາ UV & EB

UV & EB curing ໂດຍທົ່ວໄປແລ້ວຈະອະທິບາຍເຖິງການໃຊ້ແສງເອເລັກໂຕຣນິກ (EB), ultraviolet (UV) ຫຼືແສງທີ່ເບິ່ງເຫັນໄດ້ເພື່ອ polymerize ການປະສົມປະສານຂອງ monomers ແລະ oligomers ໃສ່ຊັ້ນຍ່ອຍ. ວັດສະດຸ UV & EB ອາດຈະຖືກສ້າງເປັນຫມຶກ, ການເຄືອບ, ກາວຫຼືຜະລິດຕະພັນອື່ນໆ. ຂະບວນການດັ່ງກ່າວຍັງເອີ້ນວ່າການປິ່ນປົວຮັງສີຫຼື radcure ເພາະວ່າ UV ແລະ EB ແມ່ນແຫຼ່ງພະລັງງານທີ່ສະຫວ່າງ. ແຫຼ່ງພະລັງງານຂອງແສງ UV ຫຼືແສງທີ່ເບິ່ງເຫັນໄດ້ໂດຍທົ່ວໄປແມ່ນໂຄມໄຟ mercury ຄວາມກົດດັນປານກາງ, ໂຄມໄຟ xenon ທີ່ມີກໍາມະຈອນ, LEDs ຫຼື lasers. EB – ບໍ່ເຫມືອນກັບໂຟຕອນຂອງແສງ, ເຊິ່ງມັກຈະຖືກດູດຊຶມຢູ່ໃນຫນ້າດິນຂອງວັດສະດຸ – ມີຄວາມສາມາດທີ່ຈະເຈາະຜ່ານວັດຖຸ.
ສາມເຫດຜົນທີ່ຫນ້າສົນໃຈທີ່ຈະປ່ຽນເປັນ UV & EB Technology
ການປະຫຍັດພະລັງງານແລະການປັບປຸງຜະລິດຕະພັນ: ເນື່ອງຈາກລະບົບສ່ວນໃຫຍ່ບໍ່ມີສານລະລາຍແລະຕ້ອງການຫນ້ອຍກວ່າຫນຶ່ງວິນາທີຂອງການສໍາຜັດ, ຜົນຜະລິດສາມາດເພີ່ມຂຶ້ນຢ່າງຫຼວງຫຼາຍເມື່ອທຽບກັບເຕັກນິກການເຄືອບແບບທໍາມະດາ. ຄວາມໄວຂອງສາຍເວັບ 1,000 ຟຸດ/ນາທີ. ແມ່ນທົ່ວໄປແລະຜະລິດຕະພັນແມ່ນກຽມພ້ອມໃນທັນທີສໍາລັບການທົດສອບແລະການຂົນສົ່ງ.

ເຫມາະສໍາລັບ Substrates ທີ່ລະອຽດອ່ອນ: ລະບົບສ່ວນໃຫຍ່ບໍ່ມີນ້ໍາຫຼືສານລະລາຍໃດໆ. ນອກຈາກນັ້ນ, ຂະບວນການສະຫນອງການຄວບຄຸມທັງຫມົດຂອງອຸນຫະພູມການປິ່ນປົວເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນ substrates ທີ່ລະອຽດອ່ອນຄວາມຮ້ອນ.

ສະພາບແວດລ້ອມແລະເປັນມິດກັບຜູ້ໃຊ້: ອົງປະກອບແມ່ນປົກກະຕິແລ້ວບໍ່ມີສານລະລາຍ, ສະນັ້ນການປ່ອຍອາຍພິດແລະການຕິດໄຟບໍ່ແມ່ນຄວາມກັງວົນ. ລະບົບການປິ່ນປົວແສງສະຫວ່າງແມ່ນເຂົ້າກັນໄດ້ກັບເກືອບທຸກເຕັກນິກການສະຫມັກແລະຕ້ອງການພື້ນທີ່ຕໍາ່ສຸດທີ່. ປົກກະຕິແລ້ວໂຄມ UV ສາມາດຕິດຕັ້ງຢູ່ໃນສາຍການຜະລິດທີ່ມີຢູ່.

ອົງປະກອບຂອງ UV & EB ສາມາດຮັກສາໄດ້
Monomers ແມ່ນສິ່ງກໍ່ສ້າງທີ່ງ່າຍດາຍທີ່ສຸດທີ່ວັດສະດຸອິນຊີສັງເຄາະແມ່ນເຮັດ. monomer ງ່າຍໆທີ່ໄດ້ມາຈາກອາຫານນ້ຳມັນແມ່ນເອທີລີນ. ມັນສະແດງໂດຍ: H2C=CH2. ສັນຍາລັກ “=” ລະຫວ່າງສອງໜ່ວຍ ຫຼື ອະຕອມຂອງຄາບອນເປັນຕົວແທນຂອງສະຖານທີ່ປະຕິກິລິຍາ ຫຼື ຕາມທີ່ນັກເຄມີອ້າງເຖິງມັນ, ເປັນ “ພັນທະບັດຄູ່” ຫຼືຄວາມບໍ່ອີ່ມຕົວ. ມັນແມ່ນສະຖານທີ່ຄ້າຍຄືເຫຼົ່ານີ້ທີ່ມີຄວາມສາມາດໃນການປະຕິກິລິຍາເພື່ອສ້າງເປັນວັດສະດຸເຄມີທີ່ໃຫຍ່ກວ່າຫຼືໃຫຍ່ກວ່າທີ່ເອີ້ນວ່າ oligomers ແລະໂພລີເມີ.

ໂພລີເມີແມ່ນການຈັດກຸ່ມຂອງຫຼາຍ (ເຊັ່ນ: poly-) ຫນ່ວຍຊ້ໍາກັນຂອງ monomer ດຽວກັນ. ຄຳ ວ່າ oligomer ແມ່ນ ຄຳ ສັບພິເສດທີ່ໃຊ້ເພື່ອ ກຳ ນົດໂພລີເມີຣ໌ເຫຼົ່ານັ້ນເຊິ່ງມັກຈະມີປະຕິກິລິຍາຕື່ມອີກເພື່ອສ້າງເປັນການປະສົມປະສານໃຫຍ່ຂອງໂພລີເມີ. ສະຖານທີ່ທີ່ບໍ່ອີ່ມຕົວຢູ່ໃນ oligomers ແລະ monomers ຢ່າງດຽວຈະບໍ່ດໍາເນີນການປະຕິກິລິຍາຫຼືການເຊື່ອມໂຍງຂ້າມ.

ໃນກໍລະນີຂອງການປິ່ນປົວ beam ເອເລັກໂຕຣນິກ, ເອເລັກໂຕຣນິກພະລັງງານສູງປະຕິສໍາພັນໂດຍກົງກັບປະລໍາມະນູຂອງສະຖານທີ່ unsaturated ເພື່ອສ້າງໂມເລກຸນ reactive ສູງ. ຖ້າໃຊ້ແສງ UV ຫຼືແສງຕາເວັນເປັນແຫຼ່ງພະລັງງານ, photoinitiator ຈະຖືກເພີ່ມເຂົ້າໃນການປະສົມ. photoinitiator, ເມື່ອຖືກແສງ, ສ້າງຮາກຟຣີຫຼືການກະທໍາທີ່ລິເລີ່ມການເຊື່ອມໂຍງຂ້າມລະຫວ່າງ unsaturation sites.ponents ຂອງ UV & ude

Oligomers: ຄຸນສົມບັດໂດຍລວມຂອງການເຄືອບ, ຫມຶກ, ກາວຫຼື binder crosslinked ໂດຍພະລັງງານ radiant ແມ່ນຖືກກໍານົດຕົ້ນຕໍໂດຍ oligomers ທີ່ໃຊ້ໃນສູດ. Oligomers ແມ່ນໂພລີເມີທີ່ມີນ້ໍາຫນັກໂມເລກຸນຕ່ໍາປານກາງ, ສ່ວນຫຼາຍແມ່ນອີງໃສ່ acrylation ຂອງໂຄງສ້າງທີ່ແຕກຕ່າງກັນ. acrylation imparts unsaturation ຫຼືກຸ່ມ "C = C" ໃນຕອນທ້າຍຂອງ oligomer ໄດ້.

Monomers: Monomers ຕົ້ນຕໍແມ່ນໃຊ້ເປັນສານເຈືອຈາງເພື່ອຫຼຸດຄວາມຫນືດຂອງວັດສະດຸທີ່ບໍ່ໄດ້ຮັບການປິ່ນປົວເພື່ອຄວາມສະດວກໃນການນໍາໃຊ້. ພວກເຂົາສາມາດເປັນ monofunctional, ປະກອບມີພຽງແຕ່ຫນຶ່ງກຸ່ມ reactive ຫຼື unsaturation site, ຫຼື multifunctional. ການບໍ່ອີ່ມຕົວນີ້ເຮັດໃຫ້ພວກມັນມີປະຕິກິລິຍາ ແລະຖືກລວມເຂົ້າກັບວັດສະດຸທີ່ປິ່ນປົວແລ້ວ ຫຼື ສໍາເລັດຮູບ, ແທນທີ່ຈະເປັນການລະເຫີຍໃນບັນຍາກາດຄືກັບການເຄືອບທົ່ວໄປ. monomers multifunctional, ເນື່ອງຈາກວ່າພວກເຂົາເຈົ້າປະກອບດ້ວຍສະຖານທີ່ reactive ສອງຫຼືຫຼາຍກວ່ານັ້ນ, ຮູບແບບການເຊື່ອມໂຍງລະຫວ່າງໂມເລກຸນ oligomer ແລະ monomers ອື່ນໆໃນສູດ.

Photoinitiators: ສ່ວນປະກອບນີ້ດູດຊຶມແສງສະຫວ່າງແລະຮັບຜິດຊອບສໍາລັບການຜະລິດຂອງອະນຸມູນອິດສະລະຫຼືການກະທໍາ. ອະນຸມູນອິດສະລະຫຼືການກະ ທຳ ແມ່ນຊະນິດທີ່ມີພະລັງງານສູງທີ່ເຮັດໃຫ້ເກີດການເຊື່ອມໂຍງຂ້າມລະຫວ່າງສະຖານທີ່ທີ່ບໍ່ອີ່ມຕົວຂອງ monomers, oligomers ແລະ polymers. photoinitiators ແມ່ນບໍ່ຈໍາເປັນສໍາລັບລະບົບການປິ່ນປົວ beam ເອເລັກໂຕຣນິກເນື່ອງຈາກວ່າເອເລັກໂຕຣນິກສາມາດລິເລີ່ມ crosslinking.

Additives: ທົ່ວໄປທີ່ສຸດແມ່ນ stabilizers, ເຊິ່ງປ້ອງກັນບໍ່ໃຫ້ gelation ໃນການເກັບຮັກສາແລະການປິ່ນປົວກ່ອນໄວອັນຄວນເນື່ອງຈາກລະດັບຕ່ໍາຂອງແສງສະຫວ່າງ. ເມັດສີ, ສີຍ້ອມຜ້າ, defoamers, ການສົ່ງເສີມການຍຶດຕິດ, ຕົວແທນການແປ, ຕົວແທນ wetting ແລະ slip aids ແມ່ນຕົວຢ່າງຂອງສານເສີມອື່ນໆ.